奥地利维也纳技术大学的研究人员成功开发出控制多孔碳化硅制造的方法。微小的多孔结构是实现微型传感器和特殊光学和电子元件的必备元件，传统技术使用硅作为材料，奥地利维也纳技术大学的研究人员则开发出制造多孔碳化硅的新方法。研究人员通过制造厚度约为70纳米，带有不同孔隙的薄膜将具有选择性反射功能的特殊反射镜集成到碳化硅镜片中，利用光线折射进行控制，最终形成多孔碳化硅。相比于用硅制造的多孔结构，多孔碳化硅具有更高的耐化学性，可用于生物应用。目前，研究人员成功证明了新方法可以在微观尺度上可靠地控制碳化硅的孔隙率。这为实现微米和纳米传感器和电子元件开辟新道路，为集成光学镜元件来过滤特定颜色提供可能，并在包括防反射图层，特殊生物传感器，抗超级电容器在内的一系列应用中具有极大的开发潜力。研究成果发表在APL materials,Journal of the Electrochemical Society和IPO Science上。该项研究得到了卓越技术能力中心(COMET)计划的支持。