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SERIS研究人员开发出新型多晶硅织构技术以降低反射率

2018-03-29 | 编辑:中机教育网 | 来源:中国机械工业联合会机经 | 浏览量:

        新加坡太阳能研究所(SERIS)的科学家们开发出一种新型湿化学方法,能利用金刚石绳锯技术切割多晶硅片,并随后织构以降低反射率。

 新加坡国立大学SERIS的科学家们拿着采用其新型DWS工艺制造的电池和晶片

  这一湿化学法以纳米特征尺度刻蚀晶片表面,从而增加了光线反射表面的次数及被晶片材料吸收的机会。该工艺使用专利性化学品,具有低成本性和可扩展性,且极易被集成入电池生产线。

  SERIS认为,相较于“黑硅”工艺,其新工艺能给生产厂家提供更多的益处。表示他们的技术“更简单、更价廉,且无金属,可以达到20%以上的电池效率”,有潜力成为被多晶硅太阳能电池制造商广泛使用的主流织构技术。

  据SERIS表示,这一工艺已获得了几家一线厂商的认可。该机构准备与这些厂家密切合作,将其扩大到大型生产线。

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